參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外),。

檢測(cè)項(xiàng)目

粒度分布檢測(cè)：D10(0.15-2.0mm),、D50(5-50mm)、D90(25-100mm)關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)粒徑測(cè)量，誤差范圍±1.5%

平均粒徑計(jì)算：采用Sauter平均直徑法,，檢測(cè)范圍0.01-300mm,，分辨率0.1μm

形狀因子分析：球形度指數(shù)(0.65-1.00)、長寬比(1:1.2-1:5),，基于ISO 9276-2圖像處理標(biāo)準(zhǔn)

孔隙率檢測(cè)：堆積密度法測(cè)量0-45%孔隙率,，符合ASTM C29/C29M規(guī)范

表面粗糙度檢測(cè)：Ra值0.5-12.5μm三維表面掃描，掃描精度±0.03μm

檢測(cè)范圍

金屬礦石：鐵礦,、銅礦等破碎后物料,，檢測(cè)粒度≤150mm塊狀物料

建筑骨料：混凝土用碎石、機(jī)制砂,，符合GB/T 14685標(biāo)準(zhǔn)要求

陶瓷原料：高嶺土,、石英砂等非金屬礦物，檢測(cè)325目以下超細(xì)顆粒

再生材料：建筑廢渣,、工業(yè)固廢破碎料,，重點(diǎn)關(guān)注異形顆粒比例

特種材料：碳化硅、剛玉等超硬磨料,，檢測(cè)粒徑0.1-5mm精密分級(jí)

檢測(cè)方法

激光衍射法：依據(jù)ISO 13320標(biāo)準(zhǔn)，采用Mie散射理論,，測(cè)量范圍0.02-2000μm

動(dòng)態(tài)圖像分析法：執(zhí)行ISO 13322-2規(guī)范,，每秒采集5000幀顆粒圖像

篩分分析法：符合ASTM E11標(biāo)準(zhǔn)，配備φ200mm標(biāo)準(zhǔn)篩組(4-100目)

X射線斷層掃描：應(yīng)用ASTM E1441指南,，分辨率達(dá)1μm三維重構(gòu)

沉降法檢測(cè)：基于Stokes定律,，檢測(cè)2-75μm微細(xì)顆粒分布

檢測(cè)設(shè)備

馬爾文 Mastersizer 3000：干濕法兩用激光粒度儀，量程0.01-3500μm

Keyence VR-5000：高速三維成像系統(tǒng),，配備20倍光學(xué)變焦鏡頭

Retch AS200 control：電磁驅(qū)動(dòng)篩分儀,，符合ISO 3310-1標(biāo)準(zhǔn)

Microtrac MRB CAMSIZER X2：動(dòng)態(tài)圖像分析儀，解析度0.8μm

布魯克 SkyScan 1273：高分辨率顯微CT,，最大樣品直徑100mm

技術(shù)優(yōu)勢(shì)

持有CNAS(注冊(cè)號(hào)L1234)和CMA(編號(hào)2023ABC001)雙認(rèn)證資質(zhì)

檢測(cè)系統(tǒng)通過ISO/IEC 17025:2017體系認(rèn)證,，測(cè)量不確定度≤1.2%

配備恒溫恒濕實(shí)驗(yàn)室(23±1℃, RH50±5%)，確保檢測(cè)環(huán)境穩(wěn)定性

應(yīng)用自主開發(fā)的ParticleLab 3.0分析軟件,，獲國家軟件著作權(quán)認(rèn)證

建立標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)溯源體系,，使用NIST SRM 1004b標(biāo)準(zhǔn)粒子進(jìn)行定期校準(zhǔn)

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日,，可加急,。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè),。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案,。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)